Runway Gen-2，由RunwayML倾力打造的多模态数字创作平台，将图像、音频和视频深度生成处理集于一身，借助AI技术为用户提供丰富的创作工具。用户可通过可视编程轻松开发交互式数字艺术项目，同时，平台还设有学习与共享资源社区，方便用户交流与成长。
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AIGC专区：https://heehel.com/category/aigc
Runwayml：https://heehel.com/topic/runwayml-topics
此外，Runway Gen-2支持与其他创作软件集成，让创意无缝对接。该软件凭借各类AI创作辅助功能，为艺术家和设计师打造强大的数字工作环境，助力他们轻松创建各类原始数字艺术素材和项目，简化交互作品开发流程。Runway Gen-2显著提升数字创意工作的效率与质量，可以为用户提供无限的创新空间。
https://heehel.com/aigc/midjourneyv6-runwayml-2.html
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